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AT810 經(jīng)濟性原子層沉積設備是小占地面積臺式系統(tǒng)。采用半導體級金屬密封管路以及兼容高溫的快速脈沖原子層沉積（ALD）閥。用于集成惰性氣體吹掃的超快速質量流量控制器（MFC）。6 英寸圓形卡盤（最大適配 7 英寸方形），可針對更小尺寸或其他形狀（高 11 毫米）定制。