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關于Ion Source離子源 等離子離子源 LMIS 和 GFIS 是三種常見的離子源類型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它們被廣泛用于高分辨率離子束成像和微加工應用。然而，LMIS 和 GFIS 的總電流比等離子離子源低許多數(shù)量級。如果特征尺寸大于 50 nm，則等離子離子源可以實現(xiàn)比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。

Gas Mixers氣體混配器用于 SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列遠程等離子源

TEM cube多用途樣品清潔及儲存腔室可用于在高真空下存儲多達 8 個 TEM 樣品架（極限真空在 10 -7 Torr 范圍內）。真空度足夠高，可以檢查原位 TEM 芯片的泄漏。它還可以配備遠程 EM-KLEEN 等離子源，以在腔室中進行等離子清潔。腔室的大小為 9 英寸立方。它可以擬合相當大的 TEM 和 SEM 樣品和組件。房間有一個玻璃前門用于觀察。

TEM 樣品架真空泵站可在真空條件下存儲多達六個 TEM 樣品架，以幫助樣品和樣品架放氣，去除水凝結，并保持樣品和支架清潔。它還可用于試樣夾具座的泄漏檢查。

關于SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機 SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列遠程等離子體清洗機基于勞倫斯伯克利國家實驗室開發(fā)的高效電感耦合等離子體（ICP）放電技術。與傳統(tǒng) ICP 放電技術相比，我們的 Turbo Discharge™技術進一步提高了等離子體強度多達 3 倍。