微波等離子去膠機(jī)是一個(gè)典型的勻膠過(guò)程，其中包括滴膠，高速旋轉(zhuǎn)以及干燥（溶劑揮發(fā)）幾個(gè)步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動(dòng)態(tài)滴膠。

　　靜態(tài)滴膠就是簡(jiǎn)單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來(lái)確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個(gè)基片上都涂到膠。動(dòng)態(tài)滴膠方式是在基片低速（通常在500轉(zhuǎn)/分左右）旋轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行滴膠，“動(dòng)態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開(kāi)，減少光刻膠的浪費(fèi)，采用動(dòng)態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤(rùn)濕（鋪展覆蓋）整個(gè)基片表面。尤其是當(dāng)光刻膠或基片本身潤(rùn)濕性不好的情況下，動(dòng)態(tài)滴膠尤其適用，不會(huì)產(chǎn)生針孔。

　　滴膠之后，下一步是高速旋轉(zhuǎn)。使光刻膠層變薄達(dá)到要求的膜厚，這個(gè)階段的轉(zhuǎn)速一般在1500-6000轉(zhuǎn)/分，轉(zhuǎn)速的選定同樣要看光刻膠的性能（包括粘度，溶劑揮發(fā)速度，固體含量以及表面張力等）以及基片的大小?？焖傩D(zhuǎn)的時(shí)間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉(zhuǎn)速以及勻膠時(shí)間往往能決定膠膜的厚度。

　　一般來(lái)說(shuō)，勻膠轉(zhuǎn)速快，時(shí)間長(zhǎng)，膜厚就薄。影響勻膠過(guò)程的可變因素很多，這些因素在勻膠時(shí)往往相互抵銷并趨于平衡。所以需要給予勻膠過(guò)程以足夠的時(shí)間，讓諸多影響因素達(dá)到平衡。

　　微波等離子去膠機(jī)在勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì)對(duì)膠膜的性能產(chǎn)生影響。因?yàn)樵诨D(zhuǎn)的階段開(kāi)始，光刻膠就開(kāi)始干燥（溶劑揮發(fā)）了。所以準(zhǔn)確控制加速度很重要。在一些勻膠過(guò)程中，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過(guò)程開(kāi)始的幾秒鐘內(nèi)揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對(duì)膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。在許多情況下，基片上已經(jīng)由前面工序留下來(lái)的精細(xì)圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。