微波等離子去膠機是一個典型的勻膠過程，其中包括滴膠，高速旋轉以及干燥（溶劑揮發）幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態滴膠和動態滴膠。靜態...
在平板顯示產品的制程中，隨著工藝層數的增加和產品精度的提高，光刻制程相比過去顯得越發重要。在光刻制程的過程中，顯影單元作為刻蝕設備的主要單元之一，將曝光區域或未曝光區域進行溶解，以保留另外區域，從而將圖案顯現出來。顯影單元在顯影制程中需循環...
等離子清洗機也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子清...
等離子清洗機在清洗時通入工作氣體在電磁場的作用下所激發的等離子與物體表面產生物理反應和化學反應。其中，物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面終被真空泵吸走；化學反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發性的物質，再由真空...
霍爾效應測試儀介紹：基本原理：利用霍爾效應可以測量半導體材料的導電特性，從而獲得載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數、導電類型等重要參數。當電流垂直于外磁場通過導體時，載流子發生偏轉，垂直于電流和磁場的方向會產生一附加電場，從而在導體的兩端...
快速退火爐可選擇單設定點或30段可編程控制快速退火爐器。節能型的陶瓷纖維材料和雙層結構，可將外表溫度降到常溫。均溫區長，操作簡便，密封可靠，綜合性能指標較高。爐管可選擇配置耐熱鋼、石英玻璃、陶瓷管等材料。其的主要特點有：可在真空/不同氣氛/...
石英晶體微分析儀在液體中的應用展示了巨大的潛力。QCM在功能化表面測量綁定事件是非常有效的，比如抗體-抗原綁定，蛋白間反應。儀器在生命科學領域是非常強大的工具，可以檢測DAN雜化與*的藥物化合物，以上僅僅是部分應用，更多的應用取決于你想在實...
勻膠旋涂機的工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，甩膠機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。勻膠旋涂機適應于半導體硅片，載玻片...
便攜式紫外光功率計配有一系列校準的可拆卸探針，其光譜響應峰值在365、380、400、420、436和540nm的紫外光譜范圍內，紫外光譜范圍在310nm，紫外光譜范圍在220、253.7和260nm。每一個可拆卸的探針都使用一個超穩定的硅...
光學接觸角測量儀配置先進的高分辨高速工業相機搭配LED冷光源，獲得高清圖像并通過全新優化的軟件進行計算擬合獲得準確的測試數據。儀器機構結合了人體工程學，提供人性化的自動化進樣調節、樣品臺調節、光學系統調節等，使測試變得精確而快速高效。是采用...
您的位置：
地址：深圳市寶安區胤璇中心大廈T4棟2802室
郵箱：support@firstnanosystem.com
傳真：400-9999-185
咨詢電話