濕法刻蝕系統用于先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到優化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。濕法刻蝕系統的技術確保了聲波能量均...
等離子清洗機是一種全新的高科技技術，通過對等離子體的應用，來對對象進行離子層次的清洗，達到常規清洗方式所無法達到的效果。等離子清洗機主要過程包括:首先將需要清洗的工件送入真空室固定,啟動真空泵等裝置開始抽真空排氣到10Pa左右的真空度;接著...
光學接觸角測量儀用于測試液體對固體的浸潤性，即通過測量液體與固體間所形成接觸角的大小，計算其液體的自由能對固體的附著力、張力等指標。方法是在一固體水平平面上滴一液滴，測試固體表面上的固—液—氣三相交界點處，其氣—液界面和固—液界面兩切線把液...
可用在以下領域：農業育種：（有相關的參考文獻）隨著低溫等離子技術的不斷成熟，近些年等離子體種子處理技術已開始應用于農業育種等方面，這在國內外尚屬新的研究領域。該技術是通過利用等離子體沖刷種子表面，來增強種子的活力，從而使處理過后的農作物從萌...
激光二極管測試儀器為一全新概念機種，專為激光半導體(LaserDiode)所打造設計，搭配自動化特性檢測設計概念，可供不同的測試項目同時進行檢測；搭配高容量的載具設計，可供多顆激光芯片(Chiplevel)進行大量測試；另外藉由光學定位輔助...
濕法刻蝕系統提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統，可以較大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。濕法...
勻膠旋涂儀采用創新設計的托盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果；內置調整水平裝置，較大限度的保證旋涂均勻；可對大小不同規格的基片進行旋涂。勻膠旋涂儀隨意任意時間范圍的加減速，可重復性達到+/-0.5RPM，分辨率小于0.5RPM；...
將熱重分析質譜儀與質譜儀聯用可以檢測到非常低含量的雜質，這一手段越來越受歡迎。通過熱重加熱樣品，樣品會因揮發物的存在或者燃燒分解出氣體，這些氣體被傳輸到質譜儀中，加以識別。由于質譜可以檢測材料非常低的含量，TG-MS聯用成為質量控制、產品安...
光學接觸角測量儀采用現代化工藝制造，儀器采用先進的CCD數字攝像機，配倍高分辨率變焦式顯微鏡和高亮度LED背景光源系統，搭配三維樣品臺，可進行工作臺上下、左右、前后等方向移動。實現微量進樣及上下精密移動。同時還設計了伸縮桿結構工作臺，能適應...
勻膠顯影系統具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等后的處理步驟。采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在*干燥的環境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的...
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